十温区在线式氮气甲酸炉—N10A
\n产品名称：十温区在线式氮气甲酸炉—N10A
\n产品分类：银烧结铜烧结
\n产品概述
十温区在线式氮气甲酸炉—N10A是专为银烧结和铜烧结工艺设计的高端半导体封装设备。该设备通过精确控制十温区加热与氮气甲酸氛围，实现高可靠性烧结连接。N10A采用在线式自动化设计，支持连续生产，适用于大功率器件与先进封装场景。其卓越的温控精度和气氛稳定性，能有效提升烧结层致密度与结合强度，是第三代半导体制造的关键工艺设备。
\n工艺原理
N10A基于甲酸还原与热压烧结双重原理。在氮气保护下，甲酸蒸气在高温区分解，释放活性氢原子，有效还原金属粉末表面氧化物。十温区独立控温系统提供梯度加热曲线，使银或铜浆料中的有机溶剂逐步挥发，金属颗粒熔融并致密化。氮气作为载气维持无氧环境，防止金属再氧化，最终形成低电阻、高导热、高可靠的烧结连接层。
\n应用场景
- SiC/GaN功率器件银烧结封装
- 大功率LED铜烧结固晶工艺
- 汽车电子与光伏逆变器模块封装
技术特点
- 十温区独立PID控制，温度均匀性±1.5℃
- 在线式自动传输系统，支持多规格基板连续作业
- 甲酸气氛闭环控制，浓度精度±0.1%，废气处理安全
- 高洁净度氮气环境，氧含量低于10ppm
- 模块化加热腔体，支持快速更换与维护
技术参数
| 参数 | 数值 |
|---|---|
| 温区数量 | 10个独立控温区 |
| 最高温度 | 450℃ |
| 温度均匀性 | ±1.5℃ |
| 甲酸浓度范围 | 0.5% - 5.0% |
| 氮气流量 | 10 - 100 L/min |
| 基板尺寸 | 最大300×300 mm |
| 传输速度 | 0.5 - 5.0 m/min |
| 氧含量 | ≤10 ppm |
| 电源功率 | 45 kW |
| 设备尺寸 | 3500×1200×1800 mm |
如需了解更多产品详情，请联系中科同帜半导体。
